| 所在地 |
〒940-2126
長岡市西津町2179-4
TEL:0258-86-7930
FAX:0258-86-7931 |
| E-mail |
t_c_sinfo@cvd.co.jp |
| URL |
http://www.cvd.co.jp/ |
| 代表者 |
代表取締役 時田 修二 |
| 資本金 |
3,615万円 |
| 従業員数 |
2人 |
| 設立年月日 |
平成14年5月1日 |
| 取引先 |
半導体関連メーカー |
| 取扱製品加工品 |
イットリア膜コーティング |
■主要機械設備
| 設備名 |
メーカー名 |
台数 |
| 大気開放型CVD |
自社 |
3 |
| 常圧CVD |
自社 |
１ |
| 小型CVD |
自社 |
１ |
| 大型CVD |
自社 |
１ |
| クリーンルーム |
日立 |
１ |
| 干渉膜厚計 |
|
１ |
| 洗浄設備 |
|
１ |
|
大気開放型CVD装置
酸化物膜の合成研究に最適です。 |
